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La Suisse signe le nouvel arrangement de La Haye
La conférence diplomatique pour l'adoption d'un nouvel acte de
l'arrangement de La Haye concernant le dépôt international des dessins
et modèles industriels à pu être clôturée mardi à Genève, au siège
principal de l'Organisation Mondiale de la Propriété Intellectuelle. La
Suisse signe le traité le même jour.
Ce traité permet au déposant d'obtenir la protection d'un dessin ou d'un
modèle ("design") dans plusieurs Etats contractants en ne déposant
qu'une seule requête.
Un des buts essentiels poursuivis par les 32 pays présents était
d'élargir l'Union de La Haye à un plus grand cercle d'Etats que celui
constitué par l'acte de 1960, encore en vigueur aujourd'hui. A l'heure
actuelle, bon nombre de pays importants, tels que les Etats Unis, le
Japon, le Canada et la Grande Bretagne n'ont toujours pas adhéré à
l'Union de La Haye, parce qu'ils n'accordent la protection à un design
qu'après en avoir examiné la nouveauté. En effet, les autorités de dépôt
de ces Etats doivent examiner, avant de protéger un nouveau design, si
un design semblable ou identique existe déjà. En Suisse comme dans la
plupart des Etats parties à l'Union de La Haye dans sa version actuelle,
la protection du design est déjà assurée lorsque le design déposé n'est
contraire ni aux bonnes mœurs ni à la loi.
Grâce à la volonté des Etats présents d'aboutir à un traité favorable
aux utilisateurs tout en étant efficace, les divergences entre les Etats
procédant à un examen de la nouveauté et le Etats n'y procédant pas ont
pu être surmontées.
La Suisse était représentée par une délégation de l'Institut Fédéral de
la Propriété Intellectuelle sous la direction de M. Grossenbacher,
directeur. Par ailleurs, il est à relever que le président de la
dernière réunion d'experts ainsi que le vice-président de la conférence
diplomatique faisaient partie de la délégation suisse.
Berne, le 6 juillet
Renseignements:
E. Zloczower, Institut Fédéral de la Propriété Intellectuelle, 3003
Berne, N° direct 031 323 77 98, emanuel.zloczower@ipi.ch